等離子體隱身機理研究

等離子體隱身技術(shù)作為一種全新的隱身概念,日益受到人們的關(guān)注.本文首先簡要介紹等離子體隱身的發(fā)展現(xiàn)狀;然后分別從折射效應(yīng)和吸收衰減兩方面詳細(xì)論述等離子體隱身的基本原理,說明等離子體隱身是一種很有前途的隱身方法.

作 者： 莫錦軍 劉少斌 袁乃昌   作者單位： 國防科技大學(xué),長沙,410073  刊 名： 現(xiàn)代雷達(dá)  ISTIC PKU 英文刊名： MODERN RADAR  年，卷(期)： 2002 24(3)  分類號： V21  關(guān)鍵詞： 等離子體隱身   折射效應(yīng)   吸收衰減   雷達(dá)散射截面(RCS)  

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