十八烯反應(yīng)膜的制備及其微觀摩擦學(xué)性能研究

通過紫外激發(fā)在氫終止的單晶硅表面制得了十八烯的反應(yīng)膜,并采用接觸角測定儀、紅外光譜儀、橢圓偏光儀及原子力顯微鏡等表征了薄膜的結(jié)構(gòu)和摩擦學(xué)特性.結(jié)果表明,在紫外光照射下,十八烯在硅表面通過鍵合生成有序反應(yīng)膜,從而降低硅表面的粘著能和減小摩擦.

作 者： 周金芳 任忠海 楊生榮   作者單位： 周金芳,楊生榮(中國科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所,固體潤滑國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅,蘭州,730000)

任忠海(哈爾濱紡織科學(xué)研究所,黑龍江,哈爾濱,150070) 

刊 名： 摩擦學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(5)  分類號： O623.121 TH117.3  關(guān)鍵詞： 十八烯   反應(yīng)膜   氫終止硅表面   AFM  

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