大直徑FZSi中的微缺陷研究

經(jīng)過化學-機械拋光后,用常規(guī)的檢驗旋渦缺陷的方法沒有觀察到旋渦缺陷的FZSi片,用高溫熱氧化法有時則可以觀察到明顯的旋渦狀分布的條紋圖形.使用FTIR、XPS、 SEM能譜分析等手段的測量結果表明,這種旋渦狀分布的圖形與晶體中的摻雜劑(磷、硼)和雜質(zhì)氧、碳以及重金屬雜質(zhì)沒有明顯的依賴關系,它是硅中點缺陷在晶體徑向截面上呈不均勻條紋狀分布的結果.本文對大直徑FZSi中的旋渦缺陷的形成機理和消除方法進行了初步的探討.

作 者： 張維連 趙紅生 孫軍生 張恩懷 陳洪建 高樹良 劉濤 胡元慶 李穎輝 郭麗華   作者單位： 張維連,趙紅生,孫軍生,張恩懷,陳洪建(河北工業(yè)大學半導體材料研究所,天津,300130)

高樹良,劉濤,胡元慶,李穎輝,郭麗華(天津半導體材料廠,天津,300130) 

刊 名： 人工晶體學報  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF SYNTHETIC CRYSTALS  年，卷(期)： 2002 31(6)  分類號： O77  關鍵詞： FZSi   旋渦缺陷   熱對流   點缺陷  

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