納米SoS2、薄膜的浸涂-熱解法制備和摩擦學(xué)性能研究

用浸涂-熱解法在玻璃基底表面制備了納米MoS2薄膜, 利用X射線(xiàn)光電子能譜儀、X射線(xiàn)粉末衍射儀、原子力顯微鏡、靜-動(dòng)摩擦系數(shù)測(cè)量?jī)x和掃描電子顯微鏡等儀器研究了薄膜的微觀(guān)結(jié)構(gòu)、表面形貌和摩擦學(xué)性能,初步探討了薄膜的摩擦磨損機(jī)制. 結(jié)果表明: 浸涂-熱解法制備的MoS2薄膜由近似非晶的納米微晶組成, 薄膜均勻、致密, 表面粗糙度小; 在室溫干摩擦條件下, MoS2薄膜與GCr15鋼球?qū)δ�時(shí)顯示出良好的抗磨減摩性能; 當(dāng)負(fù)荷為1.0 N而滑動(dòng)速度為90 mm/min時(shí), 其耐磨壽命大于5 000次, 摩擦系數(shù)最低可達(dá)0.12. 磨損表面形貌顯微分析表明:在低速和低負(fù)荷下薄膜的磨損機(jī)制主要是塑性變形和輕微粘著轉(zhuǎn)移, 而在較負(fù)荷和速度下的主要磨損機(jī)制為塑性變形和嚴(yán)重剝落.

作 者： 陳云霞 馮治中 劉維民   作者單位： 中國(guó)科學(xué)院蘭州化學(xué)物理研究所,固體潤(rùn)滑國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,甘肅,蘭州,730000  刊 名： 摩擦學(xué)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY TRIBOLOGY  年，卷(期)： 2002 22(2)  分類(lèi)號(hào)： O484.4  關(guān)鍵詞： 浸涂-熱解法   MoS2薄膜   制備   摩擦學(xué)性能  

【納米SoS2、薄膜的浸涂-熱解法制備和摩擦學(xué)性能研究】相關(guān)文章：

十八烯反應(yīng)膜的制備及其微觀(guān)摩擦學(xué)性能研究04-27

硅表面聚苯乙烯自組裝超薄膜的制備及摩擦磨損性能研究04-27

納米ZnO薄膜制備及液態(tài)源摻雜04-27

高導(dǎo)電聚苯胺薄膜的制備及其電磁屏蔽性能的研究04-26

溶膠-凝膠法制備CoFe2O4/TiO2納米復(fù)合薄膜及其磁性能研究04-26

含納米硅和納米鍺的氧化硅薄膜光致發(fā)光的比較研究?04-27

In摻雜納米ZnO殺菌性能的研究04-26

水熱法大面積制備TiO2納米棒陣列薄膜04-27

納米二氧化鈦的制備及其光催化性能研究04-25

SiO-TiO2納米管的制備及其光催化性能的研究04-25