軟X射線多層膜與衰減膜研究

采用隨機數的方法,發(fā)展了一種普適的多層膜設計方法,這種方法除可設計一 般的周期多層膜,更重要的是它可以根據選定的評價因子,設計不同要求的非周期多層膜.用磁控濺射方法完 成軟X射線多層膜制備,X射線衍射、盧瑟福背散射、俄歇電子譜和反射率的相對測試用來表征多層膜結構和特性,所 得結果說明多層膜的結構完整,周期參數正確.用離子束濺射方法成功地制備了有一定反射率和透過率的軟X射線 半反半透分束鏡;分析了Ag和Zr衰減膜中的雜質含量與分布及其對衰減膜特性的影響,并對衰減系數進行了修正,為實驗提供優(yōu)質的衰減膜.

作 者： 王占山 吳永剛 唐偉星 秦樹基 周斌 陳玲燕   作者單位： 同濟大學,物理系,上海,200092  刊 名： 強激光與粒子束  ISTIC EI PKU 英文刊名： HIGH POWER LASER AND PARTICLE BEAMS  年，卷(期)： 2002 14(3)  分類號： O434.14  關鍵詞： 軟X射線   多層膜   衰減膜  

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