電化學(xué)刻蝕法制備LaB6場(chǎng)發(fā)射微尖錐陣列

采用電化學(xué)刻蝕方法,成功制備出單尖的六硼化鑭、鉬、鎢及鎢錸合金場(chǎng)發(fā)射冷陰極尖錐,并對(duì)這幾種場(chǎng)發(fā)射單尖錐陰極的電子發(fā)射性能進(jìn)行了測(cè)試比較.結(jié)果表明,LaB6作為場(chǎng)發(fā)射陰極,具有良好的發(fā)射性能和穩(wěn)定性.在《111》面單晶LaB6基片上,用PECVD法沉積非晶硅作掩膜,制備出具有一定高度的LaB6微尖錐場(chǎng)發(fā)射陣列,結(jié)果發(fā)現(xiàn),LaB6基底較為平整,尖錐陣列呈現(xiàn)出各向異性.該結(jié)論對(duì)LaB6材料在場(chǎng)發(fā)射陰極方面的進(jìn)一步研究具有重要的指導(dǎo)意義.

作 者： 王小菊 林祖?zhèn)?祁康成 陳澤祥 汪志剛 蔣亞東 WANG Xiao-ju LIN Zu-lun QI Kang-cheng CHEN Ze-xiang WANG Zhi-gang JIANG Ya-dong   作者單位： 電子科技大學(xué),光電信息學(xué)院,四川,成都,610054  刊 名： 發(fā)光學(xué)報(bào)  ISTIC PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE  年，卷(期)： 2007 28(3)  分類號(hào)： O462.2 TN873+.95  關(guān)鍵詞： 單晶LaB6   場(chǎng)發(fā)射陣列   電化學(xué)刻蝕   各向異性  

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