等離子體質(zhì)譜法測(cè)定硅片硼磷硅玻璃層中硼磷含量

1 引言 隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體工業(yè)的蓬勃發(fā)展,半導(dǎo)體材料及器件中的分析技術(shù)也顯得越來(lái)越重要.在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,硼磷硅玻璃(BPSG)作為硅片表面的平整介質(zhì)和鈍化層,其中B、P的含量直接影響它的性能.B、P分析方法有多種,如美國(guó)Balazs公司采用的是等離子體發(fā)射光譜法(ICP-OES).本文用等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)對(duì)B、P進(jìn)行檢測(cè),與Balazs的分析結(jié)果對(duì)照,效果良好,而且與ICP-OES相比,B、P的檢出限降低了1～2個(gè)數(shù)量級(jí),有很高的實(shí)用價(jià)值.

作 者： 黃曜 黃郁芳 牛國(guó)興 宗祥福   作者單位： 黃曜,黃郁芳,宗祥福(復(fù)旦大學(xué)材料科學(xué)系,上海,200433)

牛國(guó)興(復(fù)旦大學(xué)化學(xué)系,上海,200433) 

刊 名： 分析化學(xué)  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY  年，卷(期)： 2002 30(7)  分類(lèi)號(hào)： O65  關(guān)鍵詞：  

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