氮化鋁薄膜光學(xué)常數(shù)和結(jié)合力測試分析

用直流磁控濺射方法在硅襯底上制備氮化鋁薄膜.X射線衍射儀和X射線光電子能譜儀分析了薄膜的結(jié)構(gòu)和成分;橢圓偏振儀測量并擬合獲得AIN薄膜在250～1000 nm波長范圍內(nèi)的折射率和消光系數(shù)曲線;利用大荷載劃痕儀的聲發(fā)射譜檢測方法并結(jié)合不同壓力下的劃痕顯微形貌觀察得到薄膜臨界載荷(結(jié)合力)Lc為29.45N.

作 者： 楊清斗 劉文 王質(zhì)武 衛(wèi)靜婷 YANG Qing-dou LIU Wen WANG Zhi-wu WEI Jing-ting   作者單位： 深圳大學(xué)光電子學(xué)研究所,廣東省光電子器件與系統(tǒng)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,深圳,518060;深圳大學(xué)光電子器件與系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,深圳,518060  刊 名： 硅酸鹽通報  ISTIC PKU 英文刊名： BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY  年，卷(期)： 2007 26(5)  分類號： O484  關(guān)鍵詞： 氮化鋁薄膜   橢圓偏振儀   消光系數(shù)   劃痕儀   結(jié)合力  

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