磁控濺射技術(shù)制備ZnO透光薄膜

采用RF磁控濺射方法,在玻璃襯底上制備了擇優(yōu)取向的ZnO薄膜;通過臺(tái)階儀、X射線衍射技術(shù)、原子力顯微鏡和分光光度計(jì)分別測(cè)量了不同濺射功率條件下淀積的ZnO薄膜厚度(淀積速率)、結(jié)晶質(zhì)量、表面形貌與粗糙度、透光光譜,報(bào)道了該薄膜結(jié)晶質(zhì)量、薄膜粗糙度與其在可見光區(qū)透光率的關(guān)系.

作 者： 俞振南 姜樂 熊志華 鄭暢達(dá) 戴江南 江風(fēng)益 YU Zhen-nan JIANG Le XIONG Zhi-hua ZHENG Chang-da DAI Jiang-nan JIANG Feng-yi   作者單位： 南昌大學(xué),教育部發(fā)光材料與器件工程研究中心,江西,南昌,330031  刊 名： 南昌大學(xué)學(xué)報(bào)（理科版）  ISTIC PKU 英文刊名： JOURNAL OF NANCHANG UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)  年，卷(期)： 2007 31(5)  分類號(hào)： O782+.9  關(guān)鍵詞： ZnO   磁控濺射   透光光譜   粗糙度   濺射功率  

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