光聚物材料中布喇格偏移的動態(tài)分析

對光致聚合全息存儲材料光化學(xué)反應(yīng)過程和引起布喇格偏移的因素進行了分析,通過理論推導(dǎo),得到了曝光時間與布喇格偏移量的關(guān)系.實驗曲線表明,材料的布喇格偏移先是隨著曝光量的增加而增加,最后達到飽和值.實驗的結(jié)果與理論分析進行比較,兩者符合較好,說明對于布喇格偏移隨時間變化動態(tài)過程的分析比較合理.

作 者： 翟鳳瀟 李若平 殷瓊 孫彩霞 路海 黃明舉 Zhai Fengxiao Li Ruoping Yin Qiong Sun Caixia Lu Hai Huang Mingju   作者單位： 翟鳳瀟,李若平,殷瓊,孫彩霞,路海,Zhai Fengxiao,Li Ruoping,Yin Qiong,Sun Caixia,Lu Hai(河南大學(xué)物理與信息光電子學(xué)院光子與光電子技術(shù)研究所,河南開封,475001)

黃明舉,Huang Mingju(河南大學(xué)物理與信息光電子學(xué)院光子與光電子技術(shù)研究所,河南開封,475001;中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所,上海,201800) 

刊 名： 光子學(xué)報  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PHOTONICA SINICA  年，卷(期)： 2006 35(12)  分類號： O438.1  關(guān)鍵詞： 布喇格偏移   光致聚合物   縮皺   全息存儲  

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