高溫漫反射紅外光譜及探針分子識(shí)別分子篩中的羥基

采用高溫漫反射紅外光譜法研究分子篩羥基, 考察了溫度、加熱時(shí)間對(duì)高溫光譜的影響.該方法結(jié)合NH3和C5H5N分子探針在298～823K對(duì)磷酸硅鋁分子篩SAPO-34中的羥基進(jìn)行了表征.結(jié)果表明, 3612 cm-1和3597 cm-1吸收峰表征的羥基位于SAPO-34分子篩的晶格中, 歸屬于兩種橋聯(lián)羥基(Si-OH-Al).兩種羥基均具有酸性, 在823K時(shí)仍然穩(wěn)定.

作 者： 張平 王樂夫 李雪輝 徐建昌   作者單位： 張平(華南理工大學(xué)化工系,廣州,510640;廣州大學(xué)環(huán)境科學(xué)系,廣州,510400)

王樂夫,李雪輝,徐建昌(華南理工大學(xué)化工系,廣州,510640) 

刊 名： 分析化學(xué)  ISTIC SCI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY  年，卷(期)： 2002 30(9)  分類號(hào)： O6  關(guān)鍵詞： 磷酸硅鋁分子篩   羥基,漫反射紅外光譜   高溫光譜   分子探針  

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