表面平整度測量的新方法研究

介紹了用反射干涉頻譜法測量透明或半透明薄膜表面平整度的方法,薄膜厚度的測量范圍約在0.2～20 μm(小于20 μm)之間.在對二氧化硅薄膜的測試中,該測試方法與橢圓偏振儀的測試結(jié)果相比較,其縱向測量誤差小于2 nm.通過光纖傳感器在薄膜上的移動,對薄膜上各點的反射光譜進行分析,得到各點的厚度.通過步進電機的移動,連續(xù)測量膜上不同點的厚度,從而獲得薄膜的表面形貌.該方法對薄膜無破壞作用,且無需測量干涉條紋,與其他的非接觸式測試方法相比較,具有無橫向測試范圍限制、測試系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單、測試精度高、測試結(jié)果可靠的特點,因此有較強的實用性.

作 者： 孫艷 王昭 譚玉山   作者單位： 西安交通大學(xué)機械工程學(xué)院,710049,西安  刊 名： 西安交通大學(xué)學(xué)報  ISTIC EI PKU 英文刊名： JOURNAL OF XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY  年，卷(期)： 2003 37(3)  分類號： O433  關(guān)鍵詞： 干涉   光纖   頻譜儀   表面平整度  

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