光學綜合孔徑干涉成像技術

閉合相位技術、U-V覆蓋技術和像重構技術是光學綜合孔徑干涉成像的三個關鍵技術.文中詳細介紹了閉合相位技術的原理、U-V覆蓋技術(包括即時覆蓋和通過孔徑旋轉的非即時覆蓋兩種方法)和用于圖像重構的常用方法以及用于光學綜合孔徑像重構的混合迭代方法,最后討論了光學綜合孔徑干涉成像技術的應用.

作 者： 王海濤 周必方   作者單位： 國家天文臺,南京天文光學技術研究所,江蘇,南京,210042  刊 名： 光學精密工程  ISTIC EI PKU 英文刊名： OPTICS AND PRECISION ENGINEERING  年，卷(期)： 2002 10(5)  分類號： O436.1  關鍵詞： 光干涉   光學綜合孔徑   圖像重構   閉合相位   U-V覆蓋  

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