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CMTD晶體(001)面的表面形貌觀測(cè)及其結(jié)晶形態(tài)研究
用倒置相差顯微鏡觀察了CdHg(SCN)4(H6C2OS)2(CMTD)晶體結(jié)晶過(guò)程的形態(tài)變化.同時(shí)用原子力顯微鏡(AFM)對(duì)CMTD的(001)面進(jìn)行形貌觀察,測(cè)得的初級(jí)臺(tái)階高度為1.411nm,是晶胞參數(shù)c的一半,發(fā)現(xiàn)了螺旋生長(zhǎng)丘及缺陷,并對(duì)生長(zhǎng)丘的中心孔芯作了初步分析,討論了CMTD晶體所特有的"樹(shù)杈狀"和"一字形"缺陷及形成機(jī)理.
蘇靜(山東大學(xué),晶體材料國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,山東,濟(jì)南,250100;中科院安徽光學(xué)精密機(jī)械研究所,安徽,合肥,230031)
刊 名: 功能材料 ISTIC EI PKU 英文刊名: JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS 年,卷(期): 2003 34(2) 分類(lèi)號(hào): O793 O781 關(guān)鍵詞: CdHg(SCN)4(H6C2OS)2(CMTD) 生長(zhǎng)機(jī)理 缺陷【CMTD晶體(001)面的表面形貌觀測(cè)及其結(jié)晶形態(tài)研究】相關(guān)文章:
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