基于光子晶體高級次反射膜空間解復用器的研究

由于實際中多周期高反射膜空間解復用器的制備工藝的難度,根據(jù)"超棱鏡"效應的多層薄膜空間解復用器的設計方法,提出了一種制備工藝簡單的多層薄膜結構,以此來降低制備的工藝難度.制備通過增加周期中單層膜的級次來減少整個高反射膜系的周期數(shù).所設計的高級次反射膜系為10(9H9L)9H,對設計的膜系進行了數(shù)值模擬計算.并和相同總物理厚度的一級次高反射膜系進行了比較.計算結果比較表明.該設計方法明顯降低了工藝設計的要求,并具有較大的空間色散和實際制備意義.

作 者： 溫凱 黃永清 段曉峰 黃輝 王琦 WEN Kai HUANG Yong-qing DUAN Xiao-feng HUANG Hui WANG Qi   作者單位： 北京郵電大學光通信與光波技術教育部重點實驗室,北京,100876  刊 名： 電子器件  ISTIC 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF ELECTRON DEVICES  年，卷(期)： 2009 32(2)  分類號： O782.9 O734  關鍵詞： 波分復用   空間色散   光子晶體   高反射膜  

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