脈沖激光沉積(PLD)薄膜技術(shù)的研究現(xiàn)狀與展望

綜述了脈沖激光沉積(PLD)薄膜技術(shù)的研究現(xiàn)狀,并按照研究方向?qū)⒄麄�研究領(lǐng)域分為三個部分:PLD法沉積薄膜的機(jī)理,PLD的工藝研究以及PLD法沉積的主要薄膜材料,分別進(jìn)行了闡述,對相關(guān)的研究工作提出了建議,并對PLD技術(shù)的應(yīng)用前景做了展望.

作 者： 戢明 宋全勝 曾曉雁   作者單位： 華中科技大學(xué)激光技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,武漢,430074  刊 名： 真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報(bào)  ISTIC EI PKU 英文刊名： VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY  年，卷(期)： 2003 23(1)  分類號： O848  關(guān)鍵詞： 脈沖激光沉積   激光激發(fā)等離子體   液滴   顆粒物  

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