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電子儲(chǔ)存環(huán)中插入元件的非線性束流動(dòng)力學(xué)的Lie代數(shù)方法
介紹了用能保證哈密頓系統(tǒng)"辛"性質(zhì)的Lie映射方法來(lái)研究電子儲(chǔ)存環(huán)中的插入元件對(duì)束流動(dòng)力學(xué)的影響.并以此方法對(duì)合肥光源中將要安裝的波蕩器UD-1對(duì)儲(chǔ)存環(huán)的影響作了初步的研究.
作 者: 李永軍 王琳 馮光耀 徐宏亮 李為民 劉祖平 作者單位: 中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)國(guó)家同步輻射實(shí)驗(yàn)室,合肥,230029 刊 名: 高能物理與核物理 ISTIC SCI PKU 英文刊名: HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS 年,卷(期): 2003 27(9) 分類號(hào): O4 關(guān)鍵詞: 電子儲(chǔ)存環(huán) 插入元件 哈密頓系統(tǒng) Lie代數(shù)和Lie映射【電子儲(chǔ)存環(huán)中插入元件的非線性束流動(dòng)力學(xué)的Lie代數(shù)方法】相關(guān)文章:
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