高嶺石有機插層機理及其復(fù)合物的應(yīng)用

綜述了近幾十年來國內(nèi)外高嶺石有機插層納米復(fù)合材料領(lǐng)域中有機插層理論的研究進展,主要對插層劑在納米層間的形態(tài)及結(jié)構(gòu)、插層過程中水的作用、吸附與插層、脫嵌過程等方面以及納米復(fù)合材料的應(yīng)用進行了詳細的闡述,并在此基礎(chǔ)上提出了該領(lǐng)域研究的重點及熱點.

作 者： 張生輝 楊楊 強穎懷 夏華 ZHANG Sheng-hui YANG Yang QIANG Ying-huai XIA Hua   作者單位： 張生輝,楊楊,強穎懷,ZHANG Sheng-hui,YANG Yang,QIANG Ying-huai(中國礦業(yè)大學(xué),材料科學(xué)與工程學(xué)院,江蘇,徐州,221008)

夏華,XIA Hua(中國地質(zhì)大學(xué),材料科學(xué)與化學(xué)工程學(xué)院,湖北,武漢,430074) 

刊 名： 巖石礦物學(xué)雜志  ISTIC PKU 英文刊名： ACTA PETROLOGICA ET MINERALOGICA  年，卷(期)： 2006 25(6)  分類號： P578.964 P579  關(guān)鍵詞： 高嶺石   有機插層   機理   應(yīng)用  

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