石英裂變徑跡蝕刻條件的對比實驗研究

通過 40%的 HF溶液、KOH飽和溶液和 19 mol/L的 NaOH溶液這三種常用方法對大、小顆粒石英進行裂變徑跡蝕刻實驗的對比發(fā)現(xiàn),用環(huán)氧樹脂固定的小顆粒石英樣品,不宜用 KOH飽和溶液(150 ℃)和 19 mol/L的 NaOH溶液(沸點,約 120 ℃)作為裂變徑跡的蝕刻劑,宜用 40%的 HF溶液;三種方法均適宜于大顆粒石英,但不同的蝕刻方法蝕刻效率不同, 40%的 HF溶液(29 ℃)的蝕刻效率最高,且操作簡單、安全性高.40%的 HF溶液最佳蝕刻時間為: 溫度在 4 ℃左右(冬季)時為 40 min,溫度在 29 ℃左右(夏季)時為 30 min,可在全年室內(nèi)常溫條件下操作.

作 者： 劉春茹 劉秀明 王世杰 張峰 LIU Chun-ru LIU Xiu-ming WANG Shi-jie ZHANG Feng   作者單位： 劉春茹,LIU Chun-ru(中國科學院,地球化學研究所,環(huán)境地球化學國家重點實驗室,貴州,貴陽,550002;中國科學院,研究生院,北京,100049)

劉秀明,王世杰,張峰,LIU Xiu-ming,WANG Shi-jie,ZHANG Feng(中國科學院,地球化學研究所,環(huán)境地球化學國家重點實驗室,貴州,貴陽,550002) 

刊 名： 地球化學  ISTIC PKU 英文刊名： GEOCHIMICA  年，卷(期)： 2007 36(3)  分類號： P599  關(guān)鍵詞： 石英   裂變徑跡   蝕刻條件   對比實驗  

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